Sistema de Deposição de Alumínio por feixe de elétrons em sistema de ultra-alto vácuo
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Sistema de Deposição de Alumínio por feixe de elétrons em sistema de ultra-alto vácuo
Sistema de Deposição de Alumínio por feixe de elétrons em sistema de ultra-alto vácuo, Projeto Jovem Pesquisador 2017/08602-0 do grupo Física dos Sistemas de Muitos Corpos (GFSMC), concedido pela FAPESP.
Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW) - Departamento de Física da Matéria Condensada - DFMC - Sala Limpa
O Sistema de Deposição de Alumínio por feixe de elétrons em sistema de ultra-alto vácuo é um equipamento para evaporação de filmes finos (alumínio) por feixe de elétrons com capacidade para regulagem de ângulo de deposição, oxidação controlada, e ion-milling.
Importante: Para os USUÁRIOS EXTERNOS ao IFGW/Unicamp, informamos que poderá ser aplicada uma taxa de manutenção pela utilização dos equipamentos a qual será cobrada do pesquisador responsável pela proposta submetida. Em caso de aprovação do tempo de utilização do equipamento, o usuário será notificado e devidamente instruído sobre o procedimento para a forma de pagamento da taxa aplicada, se for o caso.
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