Plasma de RF

Técnico responsável

Antonio Augusto G. Von Zuben - Este endereço de e-mail está sendo protegido de spambots. Você precisa habilitar o JavaScript para visualizá-lo. (19) 99177-6895

Newton Cesario Frateschi (Prof. Responsavel) - Este endereço de e-mail está sendo protegido de spambots. Você precisa habilitar o JavaScript para visualizá-lo. Ramal: 15340

Localização

Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW) - DFA - Laboratório 39

Descrição

Um plasma de radiofrequência (RF) é um gás parcialmente ionizado gerado pela aplicação de um campo elétrico alternado de alta frequência, geralmente na faixa de megahertz (MHz). A energia da radiofrequência acelera elétrons presentes no gás, que colidem com átomos e moléculas, produzindo íons, radicais livres e outras espécies excitadas, formando o plasma.

Especificações técnicas

Plasma de oxigênio que opera na faixa de frequências de MHz.

Procedimento de utilização

Esse tipo de plasma é amplamente utilizado em processos científicos, como tratamento de superfícies, gravação de materiais (etching), esterilização e fabricação de dispositivos eletrônicos. A utilização deste equipamento exige treinamento prévio.